ASML представила усовершенствованный источник EUV‑света, который может увеличить производство микрочипов на 50% к 2030 году

Новая разработка позволяет увеличить мощность источника EUV‑света с текущих 600 ватт до 1000 ватт, а в перспективе — до 1500–2000 ватт, что может привести к значительному росту выпусков чипов на одной машине к концу десятилетия.

Это улучшение обеспечит более высокую продуктивность оборудования, что даст возможность обрабатывать до 330 пластин в час по сравнению с нынешними 220, а значит, выпускать на 50% больше чипов с каждой установки. Увеличение мощности источника света сокращает время экспозиции, что снижает производственные затраты и повышает эффективность производства сложных полупроводниковых изделий.

EUV‑машины ASML являются критически важными для ведущих полупроводниковых производств, таких как Taiwan Semiconductor Manufacturing Co и Intel, так как позволяют формировать сверхтонкие структуры на кремниевых пластинах, необходимые для высокопроизводительных процессоров и элементов искусственного интеллекта. Компания остаётся единственным в мире коммерческим поставщиком такого оборудования.

Технология генерации EUV‑света основывается на плавлении капель олова, которые затем преобразуются в плазму с помощью мощных лазеров. Эти лазерные улучшения позволили компании существенно увеличить частоту генерируемых капель и энергию света, что прямо влияет на скорость и точность литографии.

Усиление производительности оборудования происходит на фоне нарастающей конкуренции со стороны компаний из США и Китая, стремящихся разработать собственные аналоги EUV‑систем. Кроме того, экспорт EUV‑машин из Европы в Китай ограничен из‑за политических и технологических соображений, что делает инновации ASML ещё более значимыми для сохранения её лидерства на мировом рынке.